半导体芯片设备核心股票

  奥普光电:第一大股东中国科学院长春光学精密机械与物理研究所持股42.4%,长光所研发光刻机曝光系统,是光刻机的核心部件。

  张江高科:自身房地产业务,上海微电子(未上市,张江高科持股10.78%)国内唯一一家研发、生产以及销售高端光刻机的企业,也是全球第四家生产IC前道光刻机的企业设备。

  芯源微:产品包括光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机、去胶机、湿法刻蚀机)。

  华海清科:华海清科CMP设备可广泛应用于12英寸和8英寸的集成电路大生产线,目前国内唯一一家为集成电路制造商提供12英寸CMP商业机型的高端半导体设备制造商.

  万业企业:自身房地产,旗下凯世通(参股82.6%)已成为国内离子注入机领军企业, 2022年4月,凯世通成功向重要客户交付了批量订单中的首批大束流离子注入机,完成了多套设备的顺利发货,业务正式进入放量新阶段。

  拓荆科技:拓荆科技引领PECVD国产化:拓荆科技具备CVD、ALD供应能力,CVD产品包括PECVD和SACVD,其中主力产品为PECVD,尽管北方华创也有PECVD产品,但目前主要应用于光伏/LED领域。拓荆科技SACVD也是国内唯一一家产业化生产该设备的厂商,而北方华创CVD产品除PECVD外主要为LPCVD、APCVD。ALD产品方面,拓荆科技与北方华创产品应用工艺有所差异(拓荆科技ALD应用于SADP工艺、STI表面薄膜;北方华创ALD应用于HKMG工艺)。由此可见,拓荆科技与北方华创尚不存在直接竞争。

  北方华创:北方华创PVD优势显著:北方华创薄膜沉积产品线较为全面,具备PVD、CVD、ALD产品供应能力,在PVD设备领域竞争优势显著,国内产线导入的国产PVD设备基本均出自北方华创。拓荆科技、中微公司尚不具备PVD产品供应能力。

  中微公司:中微公司主要为MOCVD设备,为北方华创、拓荆科技未产业化涉足的领域,产品应用于化合物半导体,其主要客户为乾照光电、三安光电等LED生产厂商

  彤程新材:唯一量产KrF。公司全资子公司彤程电子受让科华微电子33.70%的股权,已于2020年7月2日完成了相关工商变更登记。北京科华微电子成立于2004年8月,是国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司,是集光刻胶研发、生产、检测、销售于一体的中外合资企业,也是国内唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的国家级高新技术企业。

  南大光电:ArF干法湿法建成投产。2021年7月,公司作为牵头单位,承担的国家科技重大专项(02专项)“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之“先进光刻胶产品开发与产业化”项目,今日收到极大规模集成电路制造装备及成套工艺实践管理办公室下发的项目综合绩效评价结论书,项目通过了专家组验收。验收专家组认为宁波南大光电已建成年产25吨ArF光刻胶产业化基地,具备进一步扩大生产的能力,建议抓住机遇,尽快扩产。公司目前的ArF光刻胶产品尚未实现规模化量产

  晶瑞股份:g-line/i-line量产,KrF中试。光刻胶20年。公司是一家专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售的高新技术企业,主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。

  容大感光:公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品,主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。

  广信材料:公司与廣至新材料有限公司(中国台湾企业)签订《技术委托开发合同》,委托台湾廣至合作研究开发“印刷电路板柔性基板用等用途的紫外光型正型光刻胶”技术项目,开发项目可应用于印刷电路板柔性基板、LCD及LED显示面板、半导体元器件等领域的高分辨率紫外光型正型光刻胶,产品可以使用水性显影液显影。

  封测,最近炒作的Chiplet先进封装(国外20年前就有,没有多大实际意义)

  华峰测控:封测机,中国大陆最大的半导体封测供应商,主营半导体自动化测试系统及测试系统配件。

  文一科技:自动封装设备,目前国内最大的专业生产集成电路自动封装设备的厂家。半导体封装模具及设备行业营收占比65.46%。

  盛美上海:先进封装湿法设备13%,主要产品为半导体清洗设备、半导体电镀设备和先进封装湿法设备等。

  刻蚀设备:北方华创与中微公司分别在硅刻蚀领域和介质刻蚀领域,处于国内领先地位中微公司的介质刻蚀已经进入台积电5nm产线,北方华创在ICP刻蚀领域优势显著,已进入中芯国际14nm产线验证阶段。

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